ホーム > Rapidus が国内初の ASML TWINSCAN NXE:3800E リソグラフィ装置を導入 2024/12/20 北海道のIIM-1工場に設置予定国内半導体メーカーのRapidus は、ASML社のEUV露光装置の納入と設置を発表しました。 北海道のIIM-1工場に設置予定国内半導体メーカーのRapidus は、ASML社のEUV露光装置の納入と設置を発表しました。 ...続きを確認する - 未分類 - - トップページへ戻る