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AI半導体に欠かせぬ「EUV露光装置」、国内導入相次ぐ ラピダスは2台目 – 日本経済新聞

   

         

最先端半導体の量産に欠かせない極端紫外線(EUV)露光装置の国内導入が相次いでいる。1台300億円以上の高価な装置だが、2025年は3台が設置された。

最先端半導体の量産に欠かせない極端紫外線(EUV)露光装置の国内導入が相次いでいる。1台300億円以上の高価な装置だが、2025年は3台が設置された。CAIyHGMzYmQzODc3YWEzZGVhMGI6Y28uanA6amE6SlA&usg=AOvVaw2vrZoKa0mjptcCLcYNcIWB ...続きを確認する

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