ホーム > AI半導体に欠かせぬ「EUV露光装置」、国内導入相次ぐ ラピダスは2台目 – 日本経済新聞 2026/02/16 最先端半導体の量産に欠かせない極端紫外線(EUV)露光装置の国内導入が相次いでいる。1台300億円以上の高価な装置だが、2025年は3台が設置された。 最先端半導体の量産に欠かせない極端紫外線(EUV)露光装置の国内導入が相次いでいる。1台300億円以上の高価な装置だが、2025年は3台が設置された。 ...続きを確認する - 未分類 - - トップページへ戻る